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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD2000納米二氧化硅水性涂料高剪切分散機(jī)

    納米二氧化硅水性涂料高剪切分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XRS2000氧化鋅薄膜高剪切納米分散機(jī)

    氧化鋅薄膜高剪切納米分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000石墨烯散熱涂料超高速分散機(jī)

    石墨烯散熱涂料超高速分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000阻燃聚氨酯化纖類研磨分散機(jī)

    阻燃聚氨酯化纖類研磨分散機(jī)高速研磨作用及高剪切分散作用下,物料還同時(shí)承受著高頻的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力,因此經(jīng)SID希德機(jī)械研磨分散機(jī)研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定、精細(xì)的高品質(zhì)產(chǎn)品!

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  • XMD2000抹茶粉濕法超高速研磨分散機(jī)

    抹茶粉濕法超高速研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000導(dǎo)電電阻材料高剪切分散機(jī)

    導(dǎo)電電阻材料高剪切分散機(jī)配套三層連續(xù)高剪切分散機(jī),用于粉體和液體的預(yù)分散,分散后進(jìn)入高剪切分散工序,配管能夠打循環(huán)

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  • XRS2000石墨烯復(fù)合納米銀高剪切分散機(jī)

    石墨烯復(fù)合納米銀高剪切分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000水煤漿制備用研磨分散機(jī)

    水煤漿制備用研磨分散機(jī)不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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